1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）
文 献 综 述一．课题研究背景及意义低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态，它是气体在放电过程中产生大量的正负带电粒子、电子和中性粒子以及自由基组成的表现出集体行为的一种准中性气体。
低温等离子体具有较强的化学活性，反应温度低，产生所消耗的能源少，能够满足实验室环境下许多化学物理反应对温度的要求，因此，低温等离子体在科学研究实验室中有着重要的研究和应用。
因为气体放电产生等离子体具有操作简便、稳定性强的特点，所以，目前在实验研究和工业应用中通过气体放电产生低温等离子体的方式被广泛采用。
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2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案
目前，关于低温等离子体处理材料在工业应用方面，应用较多的是利用大气压空气产生介质阻挡放电和大气压低温等离子体射流方面，在低温等离子体射流方面，关于放电特性方面的研究还较少，对于憎水媒质添加方法对等离子体射流的放电演变规律、主要粒子变化、放电机理、以及射流阵列放电特性的影响尚不清楚，对憎水媒质应用于材料表面改性等工业领域的改性效果、参数优化和有效控制方法等研究较少，对于憎水媒质添加比例和流速等方面对放电过程的影响研究不足。
本课题研究目标及内容：本研究拟在憎水媒质添加条件下，利用低温等离子体针环结构射流对材料表面进行处理，改变添加比例，在不同条件下对放电过程进行电学、发光、光谱等特性诊断，对比分析处理前后材料表面憎水性，分析放电反应过程，建立媒质比例与放电特性和陶瓷表面性能的关系。
(1)等离子体射流放电特性的研究。
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